等离子清洗机(桌面型 & 大腔体型)

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莎姆克等离子清洗机产品阵容涵盖科研和生产。
我们的桌面型等离子清洗机占地面积小,能够批量处理样品/晶圆,可使用多个电极板。我们的大腔体型或装片式型等离子清洗机适用于器件制造后段清洗工艺。

桌面型等离子清洗机

桌面型等离子清洗机

PC-300 和 PC-1100都是桌面型等离子清洗系统,使用平行板直接等离子。该系统可用于清洗样品表面残留的有机物和无机物,如塑料封装,LCD基板,多芯片模块与混合集成电路。其他的应用包括光刻胶的灰化、油墨的去除、表面活化和亲水性的改善。PC-300 和 PC-1100都是全自动化触屏系统。用户可以在工艺腔体安装多个电极板,高度灵活的配置支持批量处理各种样品,从小型电子元件到大型基板。

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大容量等离子清洗机

大容量等离子清洗机

随着产量需求的增加,莎姆克可提供更大的等离子清洗机以满足客户的需求。PC-5000提供更大的电极板,用于批量生产或单片大基板,基板尺寸最高可达610mm。
PXA-100和PX-200都是全自动装片式型等离子系统,是表面封装工艺中提高可靠性的理想选择。栈式装片盒可装载2排。

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工艺实例

莎姆克RIE系统为各种材料的刻蚀提供了解决方案,包括Si,SiO2,SiNx,化合物半导体,金属和有机物如聚酰亚胺。该系统可控制刻蚀的形貌(同向性或异向性),并保持整个样品的均匀性。同时RIE系统能提供失效分析中芯片去层的可靠解决方案。

各种材料的等离子表面改质

莎姆克等离子清洗机可用于等离子表面改质。可以处理各种材料,如硅,玻璃,金属和聚合物,用来改善亲水性。用等离子体清洗机对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)样品进行处理,并测定其水接触角。结果显示等离子体处理后表面呈亲水性。
这种表面改质工艺增强了材料的粘附性,一些客户在微流器件制造中使用这种方法来键合样品。典型的材料组合是PDMS和玻璃。我们清洗机拥有简单易操作的触摸屏,一键操作就可实现各种材料等离子表面活化处理。

你需要等离子处理不平整的样品吗? 请找我们!
我们提供各种等离子清洗工艺的解决方案,甚至像塑料和玻璃管的三维内壁结构样品。

PMMA处理前

PMMA处理前
接触角:76.8°

表面改质后的PMMA

表面改质后的PMMA
接触角:20.2°

规格表

桌面型等离子清洗机 高容量等离子清洗机
装片方式 手动放片 手动放片或片盒
样品尺寸 320 mm x 230 mm

405 mm x 410 mm (电极板)

350 mm x 425 mm (接地板)
Max. 500 mm x 500 mm

or

Max. 80 mm x 250 mm
工艺气体 高达3路 高达4路
等离子模式 三种等离子体处理模式 直接等离子
RF功率 600/1000 W 600/1000/3000 W
系统控制 简单易操作触摸屏
系统特色 多个电极板用于量产 小基板的批量处理
应用 塑封和引线架的表面清洗
光学元件和模具的精密清洗
有机膜的表面清洗
光刻胶的灰化
去除有机污染物

系统特点

三种等离子体处理模式

莎姆克桌面等离子清洗机根据电极摆放位置配备有三种不同的模式。

反应离子刻蚀 (RIE) 模式

反应离子刻蚀 (RIE) 模式

样品放在接电电极上。射频功率产生的离子直接轰击样品,这样会提高刻蚀速率。

等离子刻蚀 (PE) 模式

等离子刻蚀 (PE) 模式

样品放置在接地电极上。此时离子不轰击样品,只通过自由基与表面发生反应。这种结构消除了由离子轰击造成的等离子损伤。

DS模式

DS模式

多孔电极放在样品上方,使样品与等离子分离,进一步减少等离子损伤。

多个电极板

多个电极板

多个电极板可增加产量。

Magazine 工艺

Magazine 工艺

用户可用栈式Magazine装载两排magazine。

客户证明

莎姆克等离子清洗机用于纳米器件的制造和材料处理,包括:

国立清华大学

东京大学

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